בתחום האלקטרוכימיה, פלטינה משמשת כחומר אנודה, בעל ביצועים מצוינים. במיוחד בתהליך של התפתחות חמצן אנודי אלקטרוכימי בתווך חומצי, לפלטינה אין עמידות לחמצון וביצועי אלקטרוקטליזה שיש לחומרים אחרים. פלטינה משמשת כחומר אנודה בתחומי ייצור אלקטרוכימיים חשובים רבים, כגון מי חמצן, אמוניום פרסולפט וכו'. עם זאת, משאבי פלטינה הם נדירים ויקרים. על מנת להפחית עלויות ולשמור על הביצועים המצוינים של אנודות פלטינה, נחקרו חומרי אנודה מצופים פלטינה להחלפת מוצרי אלקטרודות פלטינה טהורות, והושגו תוצאות טובות.
אנודת טיטניום מצופה פלטינה היא תהליך ציפוי פלטינה מבוסס טיטניום. שכבה של ציפוי פלטינה טהור מונחת על משטח הטיטניום. זרימת התהליך של אנודת טיטניום מצופה פלטינה היא כדלקמן:
טיפול מקדים של יריעת טיטניום → ניקוי אלקטרו → שטיפת מים → הפעלה → שטיפת מים מזוקקים → ציפוי מברשת פלטינה → שטיפת מים מזוקקים → ייבוש
המפרט הבסיסי הוא כדלקמן:
חומר בסיס: טיטניום (Gr1, Gr2, TA1, TA2)
צורה: מרושת, טבלאי, צינורי, או מותאם אישית לפי דרישות הלקוח
צפיפות זרם: ＜ 8000 A/m2
תהליך ייצור: ציפוי אלקטרוני
חומר ציפוי: פלטינה (99.99 אחוז טוהר)
תכולת מתכת יקרה: גדולה או שווה ל-21.48 גרם/㎡
עובי שכבת פלטינה: 0.3-15 מיקרומטר
טמפרטורה: ＜ 80 מעלות
ערך PH: 1-12
