ישנם סוגים רבים של מטרות קפיצה עם דרישות טוהר גבוהות, והם נמצאים בשימוש נרחב גם בתעשייה. היום, נדבר על ארבעת סוגי מטרות הקפיצה הנפוצות בארבעה תחומים עיקריים: מטרות אלומיניום בטוהר גבוה, מטרות טיטניום, מטרות טנטלום ומטרות טיטניום טונגסטן. הם מכסים את התחומים של צגים שטוחים, מוליכים למחצה, אחסון ותאים סולאריים.
יעד אלומיניום (טוהר מלאי 99.99 אחוז - 99.999 אחוז)
אלומיניום בטוהר גבוה וסגסוגותיו הם אחד מחומרי הסרט המוליך בשימוש נרחב. בתחום היישומים שלו, ייצור שבבי VLSI דורש טוהר גבוה מאוד של מתכת מטרה מקרטעת, בדרך כלל עד 99.9995 אחוז, בעוד שטוהר המתכת של צגים שטוחים ותאים סולאריים מעט נמוך יותר.
יעד טיטניום (טוהר מלאי 99.99 אחוז - 99.999 אחוז)
טיטניום הוא אחד מחומרי סרט המחסום הנפוץ בשבבי VLSI (חומר השכבה המוליך המקביל הוא אלומיניום). מטרת הטיטניום תשמש יחד עם טבעת הטיטניום בתהליך ייצור טרום-שבב. הפונקציה העיקרית היא לסייע לתהליך הקפיצה של מטרות טיטניום, המשמש בעיקר בתחום ייצור שבבי VLSI.
יעד טנטלום (טוהר המלאי 99 אחוז , 99.5 אחוז , 99.9 אחוז , 99.995 אחוז , 99.99 אחוז , 99.995 אחוז , 99.999 אחוז )
עם הגידול הנפיץ בביקוש למוצרי צריכה אלקטרוניים כגון סמארטפונים וטאבלטים, הביקוש לצ'יפים מתקדמים גדל באופן משמעותי, והטנטלום הפך למשאב מינרלי חם. עם זאת, בשל המחסור במשאבי טנטלום, מטרות טנטלום בטוהר גבוה הן יקרות ומשמשות בעיקר במעגלים משולבים בקנה מידה גדול ובתחומים אחרים.
מטרת טיטניום טונגסטן (99.95 אחוז טוהר במלאי)
לסגסוגת טונגסטן טיטניום יש ניידות אלקטרונית נמוכה, תכונות מכניות תרמיות יציבות, עמידות טובה בפני קורוזיה ויציבות כימית טובה. בשנים האחרונות, נעשה שימוש במטרת קפיצת סגסוגת טיטניום טונגסטן כחומר שכבת המגע של מעגלי רשת שבבים מוליכים למחצה. בנוסף, בחיבור מתכת של התקני מוליכים למחצה, מטרות טונגסטן וטיטניום יכולות לשמש כשכבות מחסום. הוא משמש בסביבות בטמפרטורה גבוהה, בעיקר עבור VLSI ותאים סולאריים.
