מטרת מקרטעת טיטניוםמשלוח ללקוח ב-13 בדצמבר
שם מוצר מטרה עגולה טיטניום
כיתה Gr1 Gr2 Gr3 Gr5 (Ti6al4v)
יעד טיטניום סטנדרטי: תנאים טכניים: תואם ASTM B34897
יעד לוחית טיטניום: תנאים טכניים: תואם ASTM B265-93
מפרט: מפרט נפוץ: 60/65/95/100 * 30/32/40/45 מ"מ
יעד צלחת: (8-25 מ"מ * (150-300) מ"מ * (1000-2500) מ"מ
יעד צינור: 70 מ"מ * 7 מ"מ/10 מ"מ
ניתן להשחיל ליטוש פני השטח
מאפיינים: קל משקל, עמידות בפני קורוזיה מעולה, עמידות בפני קורוזיה, חוזק גבוה, עמידות בחום טובה, משיכות טובה, לא רעיל, לא מגנטי, חוזק מכני מעולה וכו'.
מצב חישול (M) מצב עבודה חם (R) מצב עבודה קר (Y) (חישול, זיהוי פגמים על-קוליים)
יישומים: משמש בהתקני הפרדת מוליכים למחצה, צגי פאנל שטוחים, סרטי אחסון אלקטרודות, ציפויים מקרטעים, ציפוי משטחי עבודה, תעשיית ציפוי זכוכית
טוהר הוא אחד ממדדי הביצועים העיקריים של מטרות טיטניום מכיוון שלטוהר המטרה יש השפעה רבה על ביצועי הסרט. עם זאת, ביישומים מעשיים גם הדרישות לטוהר המטרה שונות. שבבי סיליקון נעים כעת בגודל בין 6 אינץ' ל-8 אינץ' עד 12 אינץ', ורוחב החיווט הצטמצמו מ-0.5 אום ל-0.25 אום, 0.18 אום, או אפילו 0.13 אממ, הודות להתקדמות המהירה של תעשיית המיקרו-אלקטרוניקה. בעבר, 99.995 אחוז מטוהר היעד יכול לעמוד בדרישות התהליך של 0.35 אום IC, בעוד ש-99.999 אחוז או אפילו 99.9999 אחוז מטוהר היעד נדרשים להכנת שורות 0.18 אום .
מקורות הזיהום העיקריים עבור הסרטים המופקדים הם זיהומים במוצק המטרה וחמצן ואדי מים בנקבוביות. לחומרי יעד שונים יש דרישות שונות לתכולת טומאה שונה. לדוגמה, למטרות אלומיניום טהור וסגסוגת אלומיניום המשמשים בתעשיית המוליכים למחצה יש דרישות מיוחדות לתכולת מתכת אלקלית ותכולת יסודות רדיואקטיביים.
המטרה בדרך כלל נדרשת להיות בעלת צפיפות גבוהה על מנת להקטין את הנקבוביות במוצק המטרה ולשפר את הביצועים של הסרט המקרטע. המאפיינים החשמליים והאופטיים של הסרט מושפעים גם מצפיפות המטרה בנוסף לקצב הקפיצה. הסרט מתפקד טוב יותר ככל שצפיפות המטרה גדולה יותר. בנוסף, המטרה עשויה לשרוד את עומס החום במהלך תהליך הקפיצה בצורה טובה יותר על ידי הפיכתה צפופה וחזקה יותר. הצפיפות היא גם אחד ממדדי הביצועים העיקריים של היעד.
